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半导体行业生物滤床废气净化系统温度的调整与控制

点击:222 次  来源:巴威环境 时间:02-21

生物滤床法废气净化系统的适用对象,是以可被微生物作用分解氧化的VOCs为主,处理效率则决定于废气成分与氧气的传输效率及生物分解速率等三大因素。在可能操作的问题应发生在废气的传输效率及生物化学反应,而影响上述问题的因素,其中部分属于生物滤床设计建造时决定为固定参数,如尺寸及滤料介质;其它参数为操作时可以改变的,有温度、湿度及废气流量等,列举如下:

温度是影响好氧生物反应的必要条件,根据现有的研究可以得知生物滤床法需要在25至35℃之间进行。对于半导体厂废气净化系统而言这是非常重要的,因为半导体厂的有机废气来源自无尘室,所以废气温度一般都只有21℃左右,过低的温度会造成生物反应速率降低,逐渐失去处理能力,或是减低滤床对VOCs的负荷能力。因此,废气温度的控制是生物滤床法在半导体产业应用上的首先控制参数,只有将废气温度作有效的控制,才有其它控制参数的讨论。

增加废气温度将增湿室的水温提高或是将直接喷洒入滤床的水温提高,这样可有效提升滤床的工作温度,但是考虑主要VOCs成分。有些属于全溶性VOCs,当增湿室内温度提高时可能会引起增湿室内分解菌大量生长,造成增湿室内管线阻塞而宕机。所以当废气温度过低时,建议由滤床上部进流口处加装雾化洒水器,将高温的水直接雾化喷入气流加湿及加温。

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